電子線描画装置 (電子ビーム描画装置/EB描画装置/EB露光装置) | 神奈川県産業技術センター
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更新日:2015.08.21

電子線描画装置 (電子ビーム描画装置/EB描画装置/EB露光装置)

お客様ご自身が使用して、試作・分析を行える機器は 『利用の仕方』欄にご利用OKがつけてあります。

電子線描画装置 (電子ビーム描画装置/EB描画装置/EB露光装置/電子ビーム露光装置)

 

 
項目 内容
機器名 電子線描画装置(電子ビーム描画装置/EB描画装置/EB露光装置/電子ビーム露光装置)
利用の仕方
使用料No
分類 生産加工機器
担当 電子技術部
仕様 ウエハー Φ3、Φ4インチ に対応
小片サンプル 10mm角、20mm角、
       25mm角 に対応
クロムマスク 4、5インチ角 に対応
ただし、最大描画領域は90×62mm
最小描画線幅10nm
つなぎ精度100nm
最大加速電圧 50KV
※専用の帯電防止剤(エスペイサー)を使用することにより絶縁体基板上への直接描画も可能
用途 電子線に反応する物質(電子線レジストパターン)に、細く絞った電子線を筆のように扱って任意のパターンを描くことを電子線リソグラフィー技術といいます。電子線リソグラフィー技術を用いて、本装置はミクロンサイズからナノサイズの電子線レジストパターンを形成できます。更に,専用の帯電防止剤(エスペイサー)を塗布することで、絶縁基板上に電子線レジストパターンを形成できます。
ミクロンサイズでは、フォトリソグラフィ用マスクの作製ができます。また、ナノサイズでは、1mm角と広い描画フィールドにおいて200nm周期のレジストパターンを高速に描画できます。応用例として、ナノパターンを用いたSAWデバイス、無反射構造体などが挙げられます。
手数料No
/試験名
製造社名 (株)エリオニクス
規格 ELS-S50
導入年度 平成26年度(地域オープンイノベーション促進事業導入機器)

  • 「使用料」とはご利用OKのついた機器をご使用いただいたときの料金です。ご利用OKのある機器でも、使用条件によって料金が変わる場合は空欄となっています。そのような機器の使用料は、お問い合わせ下さい。
  • 「手数料」とは当センター職員がお客様のご依頼を受けて試験等を実施する場合の料金です。この他にオーダーメードでもお受けできます。
  • 「試験名」とは当機器を利用して行う試験等の名称で、クリックすると詳細説明がご覧になれます。




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