磁性薄膜用三元スパッタ装置 | 神奈川県産業技術センター
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更新日:2015.08.20

磁性薄膜用三元スパッタ装置

お客様ご自身が使用して、試作・分析を行える機器は 『利用の仕方』欄にご利用OKがつけてあります。

磁性薄膜用三元スパッタ装置、磁性薄膜作製、rfマグネトロンスパッタ装置

 

 
項目 内容
機器名 磁性薄膜用三元スパッタ装置
利用の仕方  
使用料No  
分類 生産加工機器
担当 電子技術部
仕様 平行平板型マグネトロンスパッタリング/rf電源:600W、DC電源500W/3インチマグネトロンカソード:3基(強磁性体用2基、rf用3基、DC用1基)/基板加熱:最高300℃/基板回転機構付き(5rpm)/膜厚分布:±10%以内(中心よりΦ200mm内)/Arガス流量制御器付き
用途 rfマグネトロンスパッタ法による単層または多層の磁性膜作製/各種薄膜作製
手数料No
/試験名
 
製造社名 アネルバ株式会社
規格 L-332S-FH
導入年度 平成08年度

  • 「使用料」とはご利用OKのついた機器をご使用いただいたときの料金です。ご利用OKのある機器でも、使用条件によって料金が変わる場合は空欄となっています。そのような機器の使用料は、お問い合わせ下さい。
  • 「手数料」とは当センター職員がお客様のご依頼を受けて試験等を実施する場合の料金です。この他にオーダーメードでもお受けできます。
  • 「試験名」とは当機器を利用して行う試験等の名称で、クリックすると詳細説明がご覧になれます。




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