両面マスクアライナ(手動式マスクアライナ/紫外線露光装置) | 神奈川県産業技術センター
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更新日:2015.08.20

両面マスクアライナ(手動式マスクアライナ/紫外線露光装置)

お客様ご自身が使用して、試作・分析を行える機器は 『利用の仕方』欄にご利用OKがつけてあります。

両面マスクアライナ(手動式マスクアライナ/紫外線露光装置)、フォトリソグラフィ

 

 
項目 内容
機器名 両面マスクアライナ(紫外線露光装置)
使用料No  
分類 生産加工機器
担当 電子技術部
仕様 光源: 350W/基板サイズ: 2cm角から6インチφ/マスクサイズ4,5,7インチ角/位置合せ精度: 表面 ±0.5um,裏面 ±1 um/光学系: 350~450nm対応、(i線、h線、g線)ブロードバンド/微細パターンの解像度: 最小線幅0.75um/露光モード: ハード(ソフト、バキューム)コンタクト露光、プロキシミティ露光
用途 半導体製造装置(半導体プロセス装置)/本装置は、フォトリソグラフィー技術を用いてサブミクロン状の微細パターンをサブミクロン・レベルの高い重ね合わせ精度で加工するための手動式両面紫外線露光装置です。フォトマスク(クロムマスク)のパターン転写。/ご利用の一例:MEMS(圧力センサー他)、マイクロ成型金型原盤、 LED照明用バックライト用金型原盤、マイクロ流体チップ作製/厚膜レジストによる高アスペクト比構造体/ナノインプリント加工、高精度張り合わせ(それぞれ専用ジグをご用意いただく必要があります)/薄膜パターニング用のレジスト加工
手数料No
/試験名
1191/高精度リソグラフィ、1192/高精度リソグラフィ 1枚増
製造社名 ズース・マイクロテック(株)(SUSS MicroTec AG.)
規格 MA6-BSA
導入年度 平成20年度

  • 「使用料」とはご利用OKのついた機器をご使用いただいたときの料金です。ご利用OKのある機器でも、使用条件によって料金が変わる場合は空欄となっています。そのような機器の使用料は、お問い合わせ下さい。
  • 「手数料」とは当センター職員がお客様のご依頼を受けて試験等を実施する場合の料金です。この他にオーダーメードでもお受けできます。
  • 「試験名」とは当機器を利用して行う試験等の名称で、クリックすると詳細説明がご覧になれます。




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