高温小型真空雰囲気炉 | 神奈川県産業技術センター
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更新日:2015.08.21

高温小型真空雰囲気炉

お客様ご自身が使用して、試作・分析を行える機器は 『利用の仕方』欄にご利用OKがつけてあります。

高温小型真空雰囲気炉、小型熱処理炉、真空熱処理炉

 

 
項目 内容
機器名 高温小型真空雰囲気炉
利用の仕方
使用料No 6760
分類 試料調製用機器
担当 化学技術部/電子技術部
仕様 使用可能温度:~1800℃/
雰囲気: 真空中/Ar雰囲気中
試料寸法:φ35㎜以下、
高さ35mm以下
用途 シリコンや炭化ケイ素(SiC)の半導体用の専用熱処理炉です。
真空、不活性ガス(Arガス)雰囲気で熱処理可能です。
手数料No
/試験名
 
製造社名 (株)ナガノ
規格 (株)ナガノNEWTONIAMPASCAL40
導入年度 平成04年度

  • 「使用料」とはご利用OKのついた機器をご使用いただいたときの料金です。ご利用OKのある機器でも、使用条件によって料金が変わる場合は空欄となっています。そのような機器の使用料は、お問い合わせ下さい。
  • 「手数料」とは当センター職員がお客様のご依頼を受けて試験等を実施する場合の料金です。この他にオーダーメードでもお受けできます。
  • 「試験名」とは当機器を利用して行う試験等の名称で、クリックすると詳細説明がご覧になれます。




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