酸化拡散試験 | 神奈川県産業技術センター
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更新日:2015.08.17

酸化拡散試験

酸化拡散試験、熱酸化、不純物拡散、酸化拡散炉

 
項目 内容
試験名 酸化拡散試験
手数料No  1120
分類  半導体関係の試験
内容  酸素や水蒸気を利用し、Si(シリコン)ウェハへ熱酸化により、酸化膜の形成を行います。また、Siウエハの不純物拡散を行います。
補足説明 4インチウェハに対応(推奨は3インチまで)/温度範囲400~1200℃/ドライ酸化、ウエット酸化
使用機器例  酸化拡散装置
試験対象 Siウェハ
備考 1時間当たり
担当 電子技術部

  • 「使用機器例」とは当試験のために使用する機器の名称で、クリックすると詳細説明がご覧になれます。
  • 「手数料」とは当センター職員がお客様のご依頼を受けて試験等を実施する場合の料金です。
  • この他にオーダーメードでもお受けできます。




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