高精度リソグラフィ | 神奈川県産業技術センター
ホーム
ページ全体のサイズ
logo
更新日:2015.08.17

高精度リソグラフィ

高精度リソグラフィ(フォトリソグラフィ)、マスクアライナー、両面アライナー

 
項目 内容
試験名 高精度リソグラフィ
手数料No  11911192
分類  機械装置、電気・電子部品等の性能評価試験/電気・電子関係の試験/半導体関係の試験
内容 UV露光による感光性樹脂への高精度転写 両面パターンにも対応可
補足説明 1μm以下の微細パターンの形成が高い重ね合わせ精度により加工が可能です。
応用例:LED用基板、MEMSデバイス、マイクロ金型、マイクロ流体デバイス(μ-TAS)、レジストの高アスペクト比加工、薄膜パターニングなど
使用機器例  両面マスクアライナー(ズースマイクロテック、MA-6)
試験対象 ウエハサイズ:2cm角から6インチφまで対応 マスクサイズ:4、5、7インチ角に対応 バキューム/ハード/ソフトコンタクト、プロキシミティ露光に対応(サンプルによる制限あり)
備考 1191:1枚につき、1192:1枚増すごとに
担当 電子技術部

  • 「使用機器例」とは当試験のために使用する機器の名称で、クリックすると詳細説明がご覧になれます。
  • 「手数料」とは当センター職員がお客様のご依頼を受けて試験等を実施する場合の料金です。
  • この他にオーダーメードでもお受けできます。




みなさまのご意見をお聞かせください

  • このページの情報は役に立ちましたか
  •  役に立った    普通   役に立たなかった

  • このページの内容はわかりやすかったですか
  •  分かりやすい   普通   分かりにくい

  • このページの情報は見つけやすかったですか
  •  見つけやすかった 普通   見つけにくかった