産技センター職員の論文情報 登録コード:709 | 神奈川県産業技術センター
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更新日:2014.10.10

産技センター職員の論文情報 登録コード:709

発表論文/書籍 Effects of post exposure bake temperature and exposure time on SU-8 nanopattern obtained by electron beam lithography
著者/共著者 Manabu Yasui, Elito Kazawa, Satoru Kaneko, Ryo Takahashi, Masahito Kurouchi, Takeshi Ozawa and Masahiro Arai
掲載誌・書名 Japanese Journal of Applied Physics
出版社 The Japan Society of Applied Physics
出版年月 2014.10
巻−号 Vol.53 No.11S
ページ 11RF03-1-11RF03-3
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