2018年度 第16回「ナノファブスクエア in 海老名」開催のご案内(会場:海老名)


掲載日2018.12.10

第16回 シリコン酸化 講習・実習会


慶應義塾大学、早稲田大学、東京工業大学、東京大学からなる4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアムでは、 川崎市、KISTECと連携し、産学連携による新しい技術や産業の創出を図るため、新川崎・創造のもりのナノ・マイクロ産学官共同研究施設『NANOBICにおいて、4大学の先端機器の利用開放を行っています。
今回は、連携しているKISTECの設備・装置を使った実習を行います。機器を更に効果的にご利用いただくため、企業や大学の方を対象とした装置講習・実習会を開催しますのでご参加ください。

 

 日 時


 〇 2019年1月17日(木)  
 〇 13:30~16:30 ※講習1時間、実習2時間

 

 場 所


 〇 (地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)海老名本部    
    海老名市下今泉705-1(小田急線・相鉄線・JR海老名駅から徒歩15分)    
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 講 師


 〇 栗原 幸男 ( 地方独立行政法人 神奈川県立産業技術総合研究所 電子技術部)

 

 実習内容


 〇 熱酸化の原理を説明し、高温で水蒸気雰囲気の電気炉で、RCA洗浄したシリコン表面を熱酸化して
   酸化膜を形成しフォトリソグラフィを行う実習を行います。

 

 実習機器


 〇 酸化拡散装置     
  
*光洋リンドバーグ(現光洋サーモシステム)製の横型4段の大気圧ガス雰囲気炉です。
   シリコンウエハの熱酸化、熱拡散、アニール処理ができます。装置仕様、微細加工・MEMSの開発支援例をご覧ください。

 

 主 催


 〇 4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム  
 〇 (地独) 神奈川県立産業技術総合研究所  
 〇 川崎市

 

 共 催


 〇 次世代マイクロ化学チップコンソーシアム

 

 定 員


 〇 5名程度(先着)

 

 参加費


 〇 1万円(実費)

 

 申込書


 〇 参加申込書  
 *4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム ナノファブスクエア in 海老名 講習・実習会 (参加申込書)を
  ダウンロードしていただき必要事項をご記入後、下記申込先のメールアドレスへお送りください。

 

 申込先


(地独)神奈川県立産業技術総合研究所 人材育成部 教育研修課
E-mail
 sangyoujinzai@kanagawa-iri.jp

※詳細および問合せはこちらのチラシをご覧ください。

※「ナノファブスクウェア」の年間スケジュールはこちら。