2019年度 第5回「ナノファブスクエア in 海老名」開催のご案内(会場:海老名)

第5回 ナノパターン形成 講習・実習会

 慶應義塾大学、早稲田大学、東京工業大学、東京大学からなる4大学ナノ・マイクロファブリケーション
 コンソーシアムでは、 川崎市、KISTECと連携し、産学連携による新しい技術や産業の創出を図るため、
 新川崎・創造のもりのナノ・マイクロ産学官共同研究施設『NANOBIC』において、4大学の先端機器の
 利用開放を行っています。
 今回は、連携しているKISTECの設備・装置を使った実習を行います。機器を更に効果的に
 ご利用いただくため、企業や大学の方を対象とした装置講習・実習会を開催しますのでご参加ください。

 KISTEC海老名本部においては、新川崎のNANOBICと連携し、「首都圏地下鉄路線網シリコンマイクロ流路」を
 モデルチップとし、4回の講習・実習会を開催します。

 ・第4回は、シリコン表面に酸化膜を形成し、フォトリソグラフィでシリコンマイクロ流路の
  酸化膜マスクパターンを作製します。Crマスクは電子線描画で作成しています。

 ・第5回は、シリコン上のレジストに電子線描画でナノパターンを形成して、レジストパターン
  (ハーフピッチ200nm)を観察し、電子線描画技術の基本を実習します。

 ・第14回は、界面活性剤添加シリコン異方性ウエットエッチングによるマイクロ流路を形成します。

 ・第16回は、陽極接合でガラスとシリコンマイクロ流路の接合まで、シリコンMEMSチップ実装に
  配慮し講習・実習を行います。

日時

2019年7月4日(木) 13:30~16:30
※講習1時間、実習2時間

場所

(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)海老名本部    
海老名市下今泉705-1(小田急線・相鉄線・JR海老名駅から徒歩15分)    
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講師

黒内 正仁 ( 地方独立行政法人 神奈川県立産業技術総合研究所 電子技術部)

実習内容

 電子線描画装置によるレジストへのナノパターンの形成の実習を行います。

実習機器

電子線描画装置 (株)エリオニクス製 ELS-S50 

*ミクロンサイズからナノサイズの電子線レジストパターンを形成できます。
フォトリソグラフィ用マスクの作製も可能。
装置仕様、微細加工・MEMSの開発支援例は、装置仕様、微細加工・MEMSの開発支援例をご覧ください。

主催

4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム 

(地独) 神奈川県立産業技術総合研究所

川崎市

共催

次世代マイクロ化学チップコンソーシアム

定員

5名程度(先着)

参加費

1万円(実費)

申込について

参加申込書をダウンロードしていただき必要事項をご記入後、下記申込先のメールアドレスへお送りください。

 参加申込書

申込先

(地独)神奈川県立産業技術総合研究所 人材育成部 教育研修課
E-mail : sangyoujinzai@kanagawa-iri.jp

※詳細および問合せはこちらのチラシをご覧ください。

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