高精度リソグラフィ

 

高精度リソグラフィ(フォトリソグラフィ)、マスクアライナー、両面アライナー

項目 内容
試験名 高精度リソグラフィ
手数料No E1191E1192
分類 機械装置、電気・電子部品等の性能評価試験/電気・電子関係の試験/半導体関係の試験
内容 UV露光による感光性樹脂への高精度転写 両面パターンにも対応可
補足説明 1μm以下の微細パターンの形成が高い重ね合わせ精度により加工が可能です。
応用例:LED用基板、MEMSデバイス、マイクロ金型、マイクロ流体デバイス(μ-TAS)、レジストの高アスペクト比加工、薄膜パターニングなど
使用機器例 両面マスクアライナー(ズースマイクロテック、MA-6)
試験対象 ウエハサイズ:2cm角から6インチφまで対応 マスクサイズ:4、5、7インチ角に対応 バキューム/ハード/ソフトコンタクト、プロキシミティ露光に対応(サンプルによる制限あり)
備考 E1191:1枚につき、E1192:1枚増すごとに
担当 電子技術部

  • 「使用機器例」とは当試験のために使用する機器の名称で、クリックすると詳細説明がご覧になれます。
  • 「手数料」とは当研究所職員がお客様のご依頼を受けて試験等を実施する場合の料金です。
  • この他にオーダーメードでもお受けできます。