SEM観察・EDS分析

電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM/EDS)

概要

 高分解能であることに加え、焦点深度が深く、広範囲に焦点の合った立体的な像を得ることができます。主に薄膜の表面・断面、金属材料の破断面観察、微小領域での局所分析などに対応します。

装置

装置 機器名
FE-SEM (株)日立ハイテクノロジーズ S-4800
  • 二次電子像分解能 : 1.0nm(15kV),1.4nm(1kVリターディングモード)
  • 試料交換サイズ : 100mm径(最大)
EDS  EDAX Genesis2000
その他 透過電子検出器,EBIC像観察ユニット

立会い観察分析も可能です。

♣ 撮影箇所や分析箇所を指定でき、欲しい情報が的確に得られます。
♣ データを受取るだけでは得られない多くの情報を得る事ができます。
♣ 画像データはその場でお渡しできます。

特長

  • 材料の表面形態観察を三十倍から数十万倍の範囲で観察できます。
  • 光学顕微鏡に比べて焦点深度が深いので、凹凸のある試料でも観察が可能です。
  • 付属のEDSにより元素分析が可能ですので、付着物や変色部分などトラブルシューティングにおいても威力を発揮します。
  • 低加速電圧での高倍率観察や走査透過電子顕微鏡(STEM)観察が可能です。

応用例

♦ 薄膜の表面・断面観察
♦ 破面観察
♦ 微小領域での局所分析

エネルギー分散型X線分析装置による分析例

二次電子像二次電子像

 

 

SnSn

FeFe

SiSi

PbPb

NiNi

CuCu

はんだ付けされたIC断面の面分析結果

解析例

川崎技術支援部
TEL:044-819-2105 FAX:044-819-2108

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