微小蛍光X線分析装置(XRF)

概要

蛍光X線(XRF)分析装置は、試料にX線を照射し発生する蛍光X線を測定することで元素の確認(定性)や、検出された各元素のピーク強度を理論計算(FP法)することで大まかな含有量(半定量)を得ることができる装置です。

金属,半導体,有機物及びセラミックスとあらゆる固体に対応でき、元素情報を得るための入り口的な装置として、中小企業から大企業の多種多様なニーズに対応できる装置です。

原理

蛍光X線の発生原理

仕様

メーカー SIIナノテクノロジー
型式 SEA6000VX HSFinder
仕様 X線源 空冷式小型X線管球(Wターゲット)、コリメータ方式
X線照射向き 上面照射
分析領域 200μm,500μm,1.2mm,3mm,
分析元素 Mg~U (Heパージ使用時 Na~U)
試料室 580(W)×450(D)×150(H)mm
マッピング面積 250×200mm

本装置の特徴

♦ 大きい試料も非破壊で測定
♦ 微小からバルクまでの分析領域
♦ 広範囲の高速マッピング

測定事例 :メモリー基板のマッピング分析

メモリー基板のマッピング分析試料像
メモリー基板のマッピング分析マッピング重ね合せ:赤(Cu),緑(Ag),青(Pb)

解析例

金属製品の素材確認

川崎技術支援部
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