2018年度 第2回「ナノファブスクウエア」開催のご案内(会場:NANOBIC)

NANOBIC 募集中

第2回 レーザー直接描画装置 講習・実習会

慶應義塾大学、早稲田大学、東京工業大学、東京大学からなる4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアムでは、川崎市、KISTECと連携し、産学連携による新しい技術や産業の創出を図るため、新川崎・創造のもりのナノ・マイクロ産学官共同研究施設『NANOBIC』において、4大学の先端機器の利用開放を行っています。
今後、4大学の機器を更に効果的にご利用いただくため、企業や大学の方を対象とした装置講習・実習会を開催しますのでご参加ください。

 日 時

 〇 2018年5月31日(木)
 〇 13:30~16:30 ※講習1時間、実習2時間

 場 所

 〇 かわさき新産業創造センター(KBIC)新館 NANOBIC
   川崎市幸区新川崎7-7 新川崎・創造のもり(JR新川崎駅から徒歩10分)

 講 師

 〇 山本 貴富喜氏(東京工業大学工学院 准教授)

 実習内容

 〇 フォトレジストへのリソグラフィの体験実習

 実習機器

 〇 レーザー直接描画装置(Heiderberg Instruments Mikrotechnik社製DWL66fs * )
   *機器詳細仕様は「NANOBICオープンラボ」ホームページ http://open-labo.skr.jp/ の機器一覧をご覧下さい。

 主 催

 〇 4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
 〇 (地独) 神奈川県立産業技術総合研究所
 〇 川崎市

 共 催

 〇 次世代マイクロ化学チップコンソーシアム

 定 員

 〇 5名程度(先着)

 参加費

 〇 1万円(実費)

 申込書

 〇 参加申込書
  *4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム ナノファブスクエア講習・実習会 (参加申込書)を
    ダウンロードしていただき必要事項をご記入後、下記申込先のメールアドレスへお送りください。

 申込先


技術担当者 : 唐澤 志郎

Tel : 080-6560-3061/ E-mail : karasawa@newkast.or.jp
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所

 

※詳細および問合せはこちらのチラシをご覧ください。

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